Ведущий производитель конденсаторов в России

г. Сарапул, ул. Калинина д.3

Отдел маркетинга

Отдел маркетинга
(c 7.00 – 16.00 МСК)
Отдел сбыта
(c 7.00 – 16.00 МСК)
Generic selectors
Только точные совпадения
Поиск по заголовкам
Поиск по тексту
Post Type Selectors
post
Generic selectors
Только точные совпадения
Поиск по заголовкам
Поиск по тексту
Post Type Selectors
post

RU 2623969 C1 МПК: C25D 5/00 (2006.01), H01G 9/042 (2006.01)

Способ изготовления катодных обкладок объёмно-пористых танталовых электролитических конденсаторов.

1. Способ изготовления катодной обкладки электролитического объёмно-пористого танталового конденсатора, включающий подготовку поверхности катодной танталовой обкладки перед нанесением покрытия, нанесение гальванического рутениевого покрытия на поверхность катодной танталовой обкладки и анодное оксидирование рутениевого покрытия, отличающийся тем, что на поверхность катодной танталовой обкладки перед нанесением рутениевого покрытия методом центрифугирования или электрофорезом наносят неагломерированный танталовый порошок с удельным зарядом в диапазоне до 150000 мкКл/г, со средней фракцией 2,5 мкм и последующим вакуумным спеканием при остаточном давлении 10-5 мм рт.ст., температуре 1050°С в течение 1 часа, а после окончания вакуумного спекания осуществляют гальваническое нанесение рутениевого покрытия толщиной 2,0 - 4,0 мкм из электролита, содержащего г/л:
Ru(OH)Cl3 (в пересчёте на чистый металл)
5-10
NH2SO3H
30
Вода деионизированная или дистиллированная
до 1 л.
при температуре 60±10°С, напряжении 3 В, катодной плотности тока 2-6 А/дм2, количестве циклов 4-5 и времени одного цикла 10-15 мин, а анодное оксидирование проводят в 38-% растворе серной кислоты.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что нанесение рутениевого покрытия проводят сразу после спекания танталового порошка в вакууме не позднее чем через 3 часа.

Контактная информация для справок:

Скачайте подробный каталог конденсаторов в формате PDF
Размер файла: 15 Мб
Задать вопрос специалисту
Задать вопрос специалисту