1. Способ изготовления катодной обкладки электролитического объёмно-пористого танталового конденсатора, включающий подготовку поверхности катодной танталовой обкладки перед нанесением покрытия, нанесение гальванического рутениевого покрытия на поверхность катодной танталовой обкладки и анодное оксидирование рутениевого покрытия, отличающийся тем, что на поверхность катодной танталовой обкладки перед нанесением рутениевого покрытия методом центрифугирования или электрофорезом наносят неагломерированный танталовый порошок с удельным зарядом в диапазоне до 150000 мкКл/г, со средней фракцией 2,5 мкм и последующим вакуумным спеканием при остаточном давлении 10-5 мм рт.ст., температуре 1050°С в течение 1 часа, а после окончания вакуумного спекания осуществляют гальваническое нанесение рутениевого покрытия толщиной 2,0 - 4,0 мкм из электролита, содержащего г/л:
Ru(OH)Cl3 (в пересчёте на чистый металл)
5-10
NH2SO3H
30
Вода деионизированная или дистиллированная
до 1 л.
при температуре 60±10°С, напряжении 3 В, катодной плотности тока 2-6 А/дм2, количестве циклов 4-5 и времени одного цикла 10-15 мин, а анодное оксидирование проводят в 38-% растворе серной кислоты.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что нанесение рутениевого покрытия проводят сразу после спекания танталового порошка в вакууме не позднее чем через 3 часа.